示教轨迹修改方法、装置、设备及存储介质

作者： A dam

2025-12-18

---

---

发明专利：

申请号：CN202110332371.X

专利权人：大族激光科技产业集团股份有限公司;大族激光智能装备集团有限公司

授权日：2022/09/06

本发明公开了一种示教轨迹修改方法、装置、设备及存储介质，所述方法包括：单步执行示教程序，当示教程序步进走完第N程序行时，判断第N程序行的五轴参数轨迹是否出现轨迹偏差；若轨迹偏差超过预设值，则对第N程序行内的示教采样点重新取点进行修正，并建立步进程序和步退程序进行验证；若轨迹偏差不超过预设值，则在第N程序行的五轴参数的基础上调整所述五轴参数值进行修正，并建立步进程序和步退程序进行验证。本发明提供的示教轨迹修改方法可以选择对示教采样点重新取点或直接调整当前行五轴参数，从而对偏差的示教轨迹进行修正，并可通过构建步进程序和步退程序对修正后的示教轨迹进行验证，从而提高了示教程序的轨迹修改效率。

---

---